电子束光刻系统（Electron Beam Lithography）
Nanoplus采用最新的100 KeV 电子束光刻系统，塑造单模激光器的DFB激光器。
侧面金属光栅技术（Lateral Metal-Grating）
Nanoplus采用独一无二的专利技术——侧面金属光栅（Lateral Metal-Grating），它的优势在于既能保证非常高的SMSR和光谱纯度，又能通过光栅周期选择任意中心波长在760nm到3500nm之间的DFB激光器。
Nanoplus DFB激光器设计原理：
DFB激光器采用侧面金属光栅技术：
